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美国公司控前中国大陆经理窃机密后 自组公司

作者:东旗彤    发布时间:2017-09-02 05:32:10    

大纪元记者白玉综合编译) 全球最大半导体制程设备与服务供应商——美国应用材料公司(Applied Materials)近日向加州法院提交诉讼,指控上海中微半导体设备有限公司(Advanced Micro-Fabrication Equipment,AMEC)涉嫌窃取商业机密中微公司董事长兼CEO尹志尧(Gerald Yin)和执行副总裁陈爱华(Aihua Chen)都曾在应用材料公司担任要职这是一场前中国雇员离开美国公司回中国创业,而引发的智慧财产及专利拥有权的争夺战 根据InfoWorld和EE Times网站报导说,尹志尧曾在1991至2004年于应用材料公司担任过多个职务,包括蚀刻产品部(etch products group)总经理陈爱华也曾在应用材料公司担任过多个职务,包括CVD(Chemical Vapor Deposit)产品部门的总经理他们在应用材料公司的职位可以取得多项公司的智慧财产 根据诉讼文件,应用材料公司指控中微窃取商业机密并利用来开发蚀刻和CVD 产品,AMEC的产品将与应用材料竞争同类产品,而应用材料的产品研发经费达数百万美元应用材料向法庭诉求“禁止令”以保护商业机密,并希望惩罚性损害赔偿 应用材料公司指控,前雇员在离开公司时曾签订协议,使应用材料拥有前雇员在受聘期间研发产品的一切权利,以防止他们使用机密资料根据双方达成的协议,前雇员离职一年内的任何专利申请也是属于应用材料公司而AMEC在2005年8月5日、离职一年零三天的时间在中国申请专利,其后又在日本和美国申请专利 应用材料公司向加州法院提起诉讼后,中微公司声称美国法院对中微没有司法管辖权加州北区法院大法官威尔(James Ware)将于2月11日开庭,

 

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